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菲希爾鍍銀銅線厚度怎么測量
點擊次數：384 更新時間：2025-05-02 打印本頁面 返回
鍍銀銅線在廣播通訊、國防工業(yè)，甚至衛(wèi)星發(fā)射等重要領域中都有著廣泛應用。憑借耐高溫、導電性能好等顯著優(yōu)勢，其每年的市場需求量巨大。在鍍銀銅線的生產與質量把控環(huán)節(jié)，銅基銀線的銀層厚度至關重要，這一參數不僅直接關聯著線纜的生產成本，還對線纜的使用性能起著決定性作用，因而一直是商家嚴格管控的關鍵技術指標。目前，商檢部門和測試中心多采用傳統(tǒng)的酸浸退法（化學退鍍法）測定銀層鍍布量，然而該方法存在操作繁瑣、工作量大的問題。更值得注意的是，在退銀過程中，酸浸退法可能會腐蝕基底元素，進而影響分析結果的準確性。
X 射線熒光分析作為一種先進的表面分析技術，應用范圍廣泛，不僅能夠對均勻樣品進行定性、定量分析，還可用于表面狀態(tài)檢測和鍍層厚度測定。X 射線熒光測厚儀便是基于這一技術，用于鍍層厚度測試。
X 射線熒光，也被稱為特征 X 射線，本質上是光電過程中電子躍遷產生的次級 X 射線。原子由原子核和核外電子構成穩(wěn)定結構，核外電子圍繞原子核在不同軌道運行。當高能入射 X 射線與原子碰撞，會打破原子的穩(wěn)定結構，使低能量電子殼層（如 K 層）的電子被激發(fā)并脫離原子，從而產生電子空位。此時，高能量電子殼層（如 L 層）的電子會躍遷到低能量殼層填補空位。由于不同電子殼層間存在能量差，這部分能量會以二次 X 射線的形式釋放。每種元素的原子電子層能級固定，能級差（E）恒定，且 X 射線熒光源于原子內層電子躍遷，只能產生有限組譜線，所以不同元素的特征 X 射線譜線具有唯yi性。此外，特定元素產生的 X 熒光光量與其含量（或鍍層厚度）存在嚴格對應關系，這為 X 射線熒光法進行元素定性、定量分析提供了理論依據和技術基礎。
